成本持续增加,而周期时间缩短。这些都为 EDA 设计带来了前所未有的挑战,对现代高性能工作流的需求变得从未如此巨大。
最近,对 5 纳米和 3 纳米流程的计算和存储需求的增长已经超过了最常见的 EDA 基础架构方法。这些新的 3 纳米流程所需的存储和计算量是 5 纳米流程的四倍。
随着内部解决方案的容量难以满足需求,现在需要新的云解决方案来跟上时代的步伐。NetApp 通过侧重于新通用环境数据管理方法的强大云技术解决方案帮助解决这些需求。
传统的 EDA 工作流非常繁忙,无法满足 10 纳米、7 纳米和 5 纳米等领先的流程技术所需的计算和存储级别。为了满足这些不断增长的性能、可扩展性和成本需求,以及设计团队在地理位置上的分散性,底层基础架构必须易于使用、灵活、可扩展且安全。
NetApp 云服务在内部环境和在云端。ONTAP 支持以透明方式开发自行管理的混合环境和内部环境,而这只需较低的投入。ONTAP 利用现有的基础架构和人员,提供了一条无缝路径来:
无论您的 EDA 之旅带您去往何方(从现有的内部解决方案到自行管理或完全托管的云服务),NetApp 均可提供具有最高级别灵活性、安全性和可扩展性的行业领先的存储解决方案。
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